Präzisions-Leiterplattenherstellung, Hochfrequenz-Leiterplatten, mehrschichtige Leiterplatten und Leiterplattenbestückung.
Leiterplatte Blog

Leiterplatte Blog - Verfahren der ultradünnen Leiterplatte

Leiterplatte Blog

Leiterplatte Blog - Verfahren der ultradünnen Leiterplatte

Verfahren der ultradünnen Leiterplatte

2023-03-23
View:353
Author:iPCB

Leiterplatte (PCB) ist eine der wichtigsten Komponenten elektronischer Produkte. Durch die Verwendung von Leiterplatten werden Fehler in der Verdrahtung und Montage reduziert, Gerätewartung, Fehlerbehebung und Inspektionszeit eingespart und der Geräteaustausch erleichtert. Hohe Verdrahtungsdichte, geringe Größe und geringes Gewicht begünstigen die Miniaturisierung elektronischer Geräte, mechanisierter und automatisierter Produktion, verbessern die Arbeitsproduktivität und senken die Kosten für elektronische Geräte.

ultradünne Leiterplatte

ultradünne Leiterplatte

In den letzten Jahren hat der Trend von Leiterplatten zu leichten, dünnen, kleinen und hochdichten Verbindungen zur Belastung von mehr Mikrogeräten auf begrenzten Oberflächen geführt, was zur Entwicklung von Leiterplattendesigns hin zu hochdichten, hochpräzisen, mehrschichtigen und kleinen Öffnungen geführt hat. Um den Entwicklungsanforderungen der Veredelung elektronischer Produkte gerecht zu werden, entwickeln sich elektronische Produkte weiter in eine dünnere Richtung. Die immer dünneren Produkte haben erhebliche Anpassungen des Produktionsprozesses von Leiterplatten gebracht, und die Forschung und Entwicklung neuer Geräte und neuer Verfahren wurde auf die Tagesordnung gesetzt. Der Zweck besteht darin, die Mängel des Standes der Technik zu überwinden und ein Herstellungsverfahren zur Herstellung ultradünner Leiterplatten mit einer Dicke jeder Schicht kleiner als 0,05 mm unter Verwendung mehrschichtiger Kupferfolien bereitzustellen, die die Probleme der Luftleckageverschmutzung überwinden kann, die durch die Trennung der Trägerplatte und der Kupferfolie während des Verarbeitungsprozesses des Standes der Technik und die Unfähigkeit, innere vergrabene Löcher herzustellen verursacht wird.


Ein Verfahren zur Herstellung ultradünner Leiterplatten, das Verfahren umfasst die folgenden Schritte:

(1) Wählen Sie eine doppelseitige kupferbeschichtete Laminatlagerplatte 22 mit einer Dicke größer als 0,1 mm, um ein Positionierungsmuster 21 auf den oberen und unteren Außenflächen zu bilden;

(2) Nach dem Stapeln der äußeren Schicht Kupferfolie 26, Pressmaterial 23, mehrschichtige Kupferfolie 27, Pressmaterial 23, Trägerplatte 22, Pressmaterial 23, mehrschichtige Kupferfolie 27, Pressmaterial 23 und äußere Schicht Kupferfolie 26 von oben nach unten, wird Heißpressen unter Verwendung des deutschen Burklemode1lamv100 durchgeführt, um die erforderliche Pressplatte zu produzieren, wobei die Kupferfolie und das Pressmaterial eine innere Schicht Verarbeitungsplatte bilden;

(3) Führen Sie Kantenrettungsbehandlung auf der gepressten Platte mit einer Kantenrettungsmaschine durch und schneiden Sie die Platte mit der erforderlichen Größe;

(4) Mechanisches Bohren von Positionierlöchern und Herstellen von Durchgangslöchern für die geschnittene ultradünne Leiterplatte;

(5) Leiterplattenherstellung auf der erforderlichen Pressplatte durchführen, Galvanikprozesse nach Bedarf hinzufügen und leitfähige Schaltungsmuster 210 auf der äußeren Kupferfolie einer oder beider Außenflächen der erforderlichen Pressplatte bilden;

(6) Laminieren Sie die fertige Pressplatte, um eine neue isolierende Mittelschicht und leitfähige Schicht zu bilden, und fügen Sie Laserbohren, Galvanisieren, Musterübertragung und andere Prozesse bei Bedarf hinzu;

(7) Schritt 6 wiederholen, bis mindestens zwei Schichten (wie vier Schichten) der mehrschichtigen Innenschichtbearbeitungsplatte 28 mit einer Gesamtdicke größer als 0,08 mm hergestellt werden;

(8) Nach dem Zuschneiden der oben genannten fertigen Platte trennen Sie die mehrschichtige Kupferfolie, um die redundante Platte 211 und die erforderliche mehrschichtige innere Schicht Verarbeitungsplatte 28 zu bilden;

(9) Führen Sie grafische Transferproduktion auf der oberen und unteren Seite der mehrschichtigen inneren Schicht Verarbeitungsplatte durch. Wenn Sie jede Ebene erstellen, machen Sie eine grafische Übertragung, bevor Sie Ebenen hinzufügen, um die nächste Ebene zu erstellen;

(10) Laminieren Sie die beiden leitfähigen Linienmuster der mehrschichtigen inneren Schichtverarbeitungsplatte, um eine neue isolierende dielektrische Schicht und eine leitfähige Schicht zu bilden, und fügen Sie Laserbohren, Galvanisieren, Grafiken und andere Prozesse bei Bedarf hinzu;

(11) Wiederholen Sie Schritt 10, bis die äußere Schicht verarbeitet wird, und fügen Sie Prozesse wie mechanisches Bohren, galvanische Isolierungsschutzschicht und Oberflächenoxidationsschutzschichtherstellung hinzu, wie sie in ultradünner Leiterplatte benötigt wird.