Präzisions-Leiterplattenherstellung, Hochfrequenz-Leiterplatten, mehrschichtige Leiterplatten und Leiterplattenbestückung.
PCBA-Technologie

PCBA-Technologie - Prinzipien der PCBA-Prozessgalvanik-Additive

PCBA-Technologie

PCBA-Technologie - Prinzipien der PCBA-Prozessgalvanik-Additive

Prinzipien der PCBA-Prozessgalvanik-Additive

2021-10-31
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Author:Frank

Prinzipien der PCBA-Prozessgalvanik-AdditivesDerzeit hat das Land immer höhere Anforderungen an den Umweltschutz und größere Anstrengungen in der Link Governance. Dies ist eine Herausforderung, aber auch eine Chance für Leiterplattenfabriken. Wenn Leiterplattenfabriken entschlossen sind, das Problem der Umweltverschmutzung zu lösen, dann können FPC flexible Leiterplattenprodukte an der Spitze des Marktes sein, und Leiterplattenfabriken können Möglichkeiten für weitere Entwicklung erhalten. Shenzhen PCBA-Verarbeitungsgalvanik-Additive umfassen anorganische Additive (wie Cadmiumsalz für die Kupferbeschichtung) und organische Additive (wie Cumarin für die Vernickelung usw.) In den frühen Tagen, die meisten der Galvanik-Additive verwendet wurden, waren anorganische Salze, und dann organische Verbindungen gewann allmählich eine dominante Position in den Reihen der Galvanik-Additive. Galvanische Additive können nach Funktion klassifiziert werden in Aufheller, Nivellierungsmittel, Spannungsentlastungsmittel und Netzmittel. Additive mit unterschiedlichen Funktionen haben im Allgemeinen unterschiedliche strukturelle Eigenschaften und Wirkmechanismen, aber auch multifunktionale Additive sind häufiger. Zum Beispiel kann Saccharin sowohl als Vernickelungsaufheller als auch als allgemein verwendetes Spannungsentlastungsmittel verwendet werden; Auch Additive mit unterschiedlichen Funktionen können demselben Wirkmechanismus folgen. Der Wirkungsmechanismus von galvanischen Additiven in der PCBA-Verarbeitung in Shenzhen

Leiterplatte

Der Metallelektrodepositionsprozess wird Schritt für Schritt durchgeführt: Zuerst wandern die elektroaktiven Materialpartikel zur Elektrosorption in die äußere Helmholtz-Schicht in der Nähe der Kathode zur Elektrosorption, und dann wird die Kathodenladung auf den adsorbierten Teil der Elektrode übertragen, um Ionen oder einfach zu desolvieren. Die adsorbierten Atome wandern auf der Oberfläche der Elektrode, bis sie in das Kristallgitter verschmelzen. Der erste Prozess erzeugt vor allem ein bestimmtes Überpotential (bzw. Migrationsüberpotential, Aktivierungsüberpotential und Elektrokristallisationsüberpotential). Nur unter einem bestimmten Überpotential kann der Metallelektrodepositionsprozess eine ausreichend hohe Kornnukleationsrate, eine mittlere Ladungstransferrate und ein ausreichend hohes kristallines Überpotential aufweisen, um sicherzustellen, dass die Beschichtung flach und dicht ist und fest mit dem Basismaterial verbunden ist. Shenzhen PCBA-Verarbeitung und richtige Galvanik-Additive können das Überpotential der Metallelektrodeposition erhöhen und eine starke Garantie für die Qualität der Beschichtung bieten.1, PCBA-Verarbeitung Diffusionskontrollmechanismus"In den meisten Fällen die Diffusion von Additiven zur Kathode (anstatt die Diffusion von Metallionen) bestimmt die Elektrodenposition des Metalls. Dies liegt daran, dass die Konzentration von Metallionen im Allgemeinen 100- bis 105-fache der Konzentration von Additiven ist. Bei Metallionen ist die Stromdichte der Elektrodenreaktion viel niedriger als ihre Grenzstromdichte. Im Fall der additiven Diffusionskontrolle diffundieren und adsorbieren die meisten additiven Partikel auf den Vorsprüngen, aktiven Stellen und speziellen Kristallflächen mit hoher Oberflächenspannung der Elektrode, wodurch die adsorbierten Atome auf der Elektrodenoberfläche zu den Aussparungen auf der Elektrodenoberfläche migrieren und in das Kristallgitter eintreten. Um die Rolle des Nivellierens und Aufhellens zu spielen.2, PCBA-VerarbeitungsnichtdiffusionssteuerungsmechanismusGemäß den dominanten Nichtdiffusionsfaktoren in der Galvanik kann der Nichtdiffusionssteuerungsmechanismus von Additiven in Elektroadsorptionsmechanismus, komplexe Formationsmechanismus (einschließlich Ionenbrücken-Mechanismus), Ionenpaar-Mechanismus unterteilt werden, Helmholtz-Potentialmechanismus ändern, und ändern Sie Elektroden Oberflächenspannungsmechanismus und viele andere.